Target materials , Sputtering targets

薄膜靶材

大同特殊钢的薄膜靶材

我们提供工具,金属模具显示器,半导体等各种用途的溅射靶材或蒸发涂敷材料.

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靶材

我们的溅射靶材和蒸发涂敷材料特点为纯度高、结构均匀、密度高、气体含量低。

我们的溅射靶材和蒸发涂敷材料特点为纯度高、结构均匀、密度高、气体含量低。

我们有各种用途的产品阵容.

Main applications Purity Material
Magnet recording film 3N~4N Ni Co Fe
Ni-alloy Co-alloy Cr
Cr-alloy
Display film 3N~4N Cr Mo Ta
Ag-alloy
Semiconductor film,
Electronic device film
3N~6N Mo Ta W
Ti Ni
Magnet-Optical
recording film
3N Gd-Fe-Co Tb-Fe-Co Al-Ti
Al-Cr Al-V
Decorative film,
Surface-hardening film
2N~3N Ni-Cr-Mo Zr Hf
Ti-Al Ti-Al-V Cr
Ti
Resistor film 3N Ni-Cr Ni-V
  • Please feel free to consult us regarding requirements for materials, shapes, backing plate fabrication and bonding other than those shown above.

靶材的形状

平板靶材
平板靶材
宽50~300㎜x长300~3000㎜
圆盘靶材
圆盘靶材
φ1~12英寸/φ25~350㎜
圆柱靶材
圆柱靶材
外径100~180㎜x长500~2000㎜
蒸发涂敷材料
蒸发涂敷材料
例:φ50㎜、10x10x10㎜、φ13x10㎜

自主研发的靶材

我们也有根据市场需求开发的靶材,
可以提供用于评估的成膜样品.

NCT:保护层用溅射靶材

使用案例 触摸屏的Cu或Al的引线保护膜.
类型 溅射靶材
特长

可靠性,蚀刻性

作为保护膜将其用于Cu或Al配线,可以提高配线可靠性.
可以用市售的蚀刻液进行湿式蚀刻.
通过形成氮化膜,防止扩散,提高密合性.


靶材外观

靶材外观

NCT

Mo(比较产品)

Mo(比较产品)

Comparison material

高温高湿测试:85℃、85RH、500hrs

使用案例

触摸屏的引线保护膜

配线截面构成例
单层膜的电极形成后照片
(最小配线宽度2μm)

STARMESHTM-α1:黑化膜用溅射靶材

使用案例 触摸屏的金属网格电极
类型 溅射靶材
特长

低反射,蚀刻性

通过与Al或Cu叠加成膜,可以使配线呈黑色.
可以用市售的蚀刻液进行湿式蚀刻.

靶材外观
靶材外观
Patterned sample(3μm at minimum Line width)
电极形成后照片
(最小配线宽度3μm)
反射率
反射率
使用案例

触摸屏的金属网格电极

金属网格电极的截面构成例

[新物品]STARMESHTM-β1:黑化膜用溅射靶材

使用案例 触摸屏的金属网格电极
类型 溅射靶材
特长

低反射,可靠性

通过与Al或Cu叠加成膜,可以使配线呈黑色.
提高配线可靠性.

靶材外观
靶材外观
反射率
反射率
可靠性
可靠性
使用案例

触摸屏的金属网格电极

金属网格电极的截面构成例
产品介绍 新闻稿 发布高可靠性金属网格电极黑化膜用靶材「STARMESHTM-β1」

Inquiries about Target material, New metal